| 褶合光谱模式识别系统对样品中杂质检查能力的考察 |
| 投稿时间：2003-10-28 点此下载全文 |
| 引用本文：周丽芳,朱臻宇,吴玉田,柴逸峰,曹颖瑛.褶合光谱模式识别系统对样品中杂质检查能力的考察[J].药学实践杂志,2003,(6):336~337 |
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| 中文摘要:目的 研究褶合光谱模式识别系统杂质检查能力。方法 采用高斯函数模拟样品和杂质的吸收光谱,求出各杂质在主成分存在下的检测限。结果 得出了杂质检测限随物质相关性变化的分布趋势。结论 褶合光谱模式识别系统是一种高分辨率的杂质检查手段。 |
| 中文关键词:褶合光谱 模式识别 杂质检查 高斯函数 |
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